Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал: http://repositsc.nuczu.edu.ua/handle/123456789/9421
Повний запис метаданих
Поле DCЗначенняМова
dc.contributor.authorШпилинська, О.Л.-
dc.contributor.authorТрефiлова, Л.М.-
dc.contributor.authorПоложій, Е.М.-
dc.contributor.authorЛебединський, О.М.-
dc.date.accessioned2019-10-11T11:35:55Z-
dc.date.available2019-10-11T11:35:55Z-
dc.date.issued2019-05-
dc.identifier.citationТрефiлова Л.М., Положій Е.М., Лебединський О.М., Шпилинська О.Л. Фактори, що впливають на радіаційне пошкодження сцинтиляційного кристала CSI / Інформаційні технології: наука, техніка, технологія, освіта, здоров’я: тези доповідей ХXVІІ міжнародної науково-практичної конференції MicroCAD-2019, 15–17 травня 2019 р.: у 5 ч. Ч. V. / за ред. проф. Сокола Є.І. – Харків: НТУ “ХПІ”. – с. 143.ru_RU
dc.identifier.urihttp://repositsc.nuczu.edu.ua/handle/123456789/9421-
dc.description.abstractВідповідно до проведених експериментів, під час опромінення навіть відносно невеликими дозами 1-100 Гр у кристалі CsI утворюються F-центри. Причиною їх утворення є забрудненість домішками OH–- і CO3 2–-іонів. Вказані іони утворюються внаслідок процесів гідролізу і піролізу, що проходять у процесі вирощування кристала CsI. У доповіді запропоновано механізм утворення F-центрів за участю вказаних кисневмісних іонівru_RU
dc.language.isoukru_RU
dc.publisherНТУ “ХПІ”ru_RU
dc.subjectкристал CsIru_RU
dc.subjectутворення F-центрівru_RU
dc.subjectмеханізмru_RU
dc.subjectрозробка датчиківru_RU
dc.titleФактори, що впливають на радіаційне пошкодження сцинтиляційного кристала CSIru_RU
dc.typeThesisru_RU
Розташовується у зібраннях:Кафедра спеціальної хімії та хімічної технології

Файли цього матеріалу:
Файл Опис РозмірФормат 
ТЕЗИ MicroCAD 2019 ВІТВ НТУ ХПІ-Трефилова.pdfУтворення F- центрів кристала CsI389,73 kBAdobe PDFПереглянути/Відкрити


Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.