Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал:
http://repositsc.nuczu.edu.ua/handle/123456789/4805Повний запис метаданих
| Поле DC | Значення | Мова |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | Тесленко, Олексій Олексійович | - |
| dc.date.accessioned | 2017-10-25T23:57:05Z | - |
| dc.date.available | 2017-10-25T23:57:05Z | - |
| dc.date.issued | 1991-08-30 | - |
| dc.identifier.citation | Препринт ИМК-91-20, Харьков: институт монокристаллов | ru_RU |
| dc.identifier.uri | http://repositsc.nuczu.edu.ua/handle/123456789/4805 | - |
| dc.description.abstract | Исследовано влияние некомпланарности в тонких прозрачных изотропных и анизотропных пластинах на устойчивость метода фотоупругости. Рассмотрены различные виды напряженого состояния и величины напряжений. Исследования проводились методами моделирования на ЭВМ. Показано, что для величины некомпланарности напряжений в 10% от компланарных компонент ошибка не превышает 7%. | ru_RU |
| dc.language.iso | ru | ru_RU |
| dc.publisher | Препринт ИМК-91-20 | ru_RU |
| dc.relation.ispartofseries | ИМК-91-20; | - |
| dc.title | Метод фотоупругости для обьемнонапряженых тонких пластин/ | ru_RU |
| dc.type | Preprint | ru_RU |
| Розташовується у зібраннях: | Кафедра пожежної і техногенної безпеки об'єктів та технологій | |
Файли цього матеріалу:
| Файл | Опис | Розмір | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| pdf_19_1991.pdf | 6,36 MB | Adobe PDF | Переглянути/Відкрити |
Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.