Please use this identifier to cite or link to this item:
http://repositsc.nuczu.edu.ua/handle/123456789/4805
Full metadata record
DC Field | Value | Language |
---|---|---|
dc.contributor.author | Тесленко, Олексій Олексійович | - |
dc.date.accessioned | 2017-10-25T23:57:05Z | - |
dc.date.available | 2017-10-25T23:57:05Z | - |
dc.date.issued | 1991-08-30 | - |
dc.identifier.citation | Препринт ИМК-91-20, Харьков: институт монокристаллов | ru_RU |
dc.identifier.uri | http://repositsc.nuczu.edu.ua/handle/123456789/4805 | - |
dc.description.abstract | Исследовано влияние некомпланарности в тонких прозрачных изотропных и анизотропных пластинах на устойчивость метода фотоупругости. Рассмотрены различные виды напряженого состояния и величины напряжений. Исследования проводились методами моделирования на ЭВМ. Показано, что для величины некомпланарности напряжений в 10% от компланарных компонент ошибка не превышает 7%. | ru_RU |
dc.language.iso | ru | ru_RU |
dc.publisher | Препринт ИМК-91-20 | ru_RU |
dc.relation.ispartofseries | ИМК-91-20; | - |
dc.title | Метод фотоупругости для обьемнонапряженых тонких пластин/ | ru_RU |
dc.type | Preprint | ru_RU |
Appears in Collections: | Кафедра пожежної і техногенної безпеки об'єктів та технологій |
Files in This Item:
File | Description | Size | Format | |
---|---|---|---|---|
pdf_19_1991.pdf | 6,36 MB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.