Please use this identifier to cite or link to this item: http://repositsc.nuczu.edu.ua/handle/123456789/4805
Title: Метод фотоупругости для обьемнонапряженых тонких пластин/
Authors: Тесленко, Олексій Олексійович
Issue Date: 30-Aug-1991
Publisher: Препринт ИМК-91-20
Citation: Препринт ИМК-91-20, Харьков: институт монокристаллов
Series/Report no.: ИМК-91-20;
Abstract: Исследовано влияние некомпланарности в тонких прозрачных изотропных и анизотропных пластинах на устойчивость метода фотоупругости. Рассмотрены различные виды напряженого состояния и величины напряжений. Исследования проводились методами моделирования на ЭВМ. Показано, что для величины некомпланарности напряжений в 10% от компланарных компонент ошибка не превышает 7%.
URI: http://repositsc.nuczu.edu.ua/handle/123456789/4805
Appears in Collections:Кафедра пожежної і техногенної безпеки об'єктів та технологій

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
pdf_19_1991.pdf6,36 MBAdobe PDFView/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.